品牌：常州鸿明
型号：HM-Sputtering-120
原理类型：真空溅射镀膜机
应用领域：所有行业
极限真空度类型：超高真空
镀膜室尺寸：120mm
抽气时间：2min
本公司为国内精密仪器设备领域的专业厂商，为各大工厂、高校、研究所提供一流的设备，和生产、实验解决方案。
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黄经理
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小型磁控溅射镀膜仪参数指标
1.腔室尺寸：Ф120×180mm，304优质不锈钢材质，氩弧焊接，带玻璃观察罩；
2.样品台尺寸：Ф30 ~75mm，高度：60～120mm可调；
3.真空系统：合资机械泵+分子泵；采用电磁挡板阀及限流阀；（选配）
4.极限真空：8.0×10-5Pa；
5.真空抽速：大气～8×10-4Pa≤20min；
6.真空测量：全量程复合真空计，测量范围：105Pa～10-5Pa；（选配）
7.磁控靶：Φ2英寸2只（含靶挡板），兼容直流电源和射频电源；
8.溅射电源：500W直流溅射电源和300W自动匹配射频电源可选；
9.质量流量计：进口20sccm、50sccm质量流量控制器各一套；
10.控制方式：具备漏气自检与提示、通讯故障自检、保养维护提示等功能；
11.设备外形：L60cm×W60cm×H96cm机电一体化机架，预留1个KF25法兰接口；
12.设备供电总功率≤2KW，220V，单相三线制（一火一零一地）；
13.设备集成度高，可以直接放置于实验桌面上，需要拆卸的部分采用即插即用的方式，接线及安装调试便捷简单；
14.设备整机可置于手套箱内，水、电、气等通过KF40接口接到手套箱外，与手套箱的对接灵活方便；
