脉冲激光沉积简介
脉冲激光沉积是一种广泛应用于各种薄膜制备技术的方法，其原理是将激光聚焦于靶材上较小的面积。通过激光的高能量密度，部分靶材料被蒸发甚至电离，使其能够脱离靶材并向基底运动，进而沉积于基底上，形成薄膜。在众多薄膜制备方法中，脉冲激光沉积技术应用范围广泛，可以制备金属、半导体、氧化物、氮化物、碳化物、硼化物、硅化物、硫化物及氟化物等各种物质薄膜，甚至还可以用来制备一些难以合成的材料膜，如金刚石、立方氮化物膜等。
高能核素溅射表面的部分原子，并在入射流与受溅射原子之间，建立了一个碰撞区。通过控制镀膜压力和温度，可以合成一系列具有独特功能的纳米结构和纳米颗粒。此外，脉冲激光沉积（PLD）是一种“数字”技术，在纳米尺度上进行工艺控制（A°/pulse）。
沈阳鹏程真空技术有限责任公司是一家以诚信为首、服务至上为宗旨的公司，专注于脉冲激光沉积研发定制与生产。公司拥有强大的销售团队和经营理念，生产、销售脉冲激光沉积，拥有先进的技术支持。靶台可安装6个靶位，靶材更换灵活；样品台样品尺寸从10x10mm样品到2英寸样品均适用；进样室可存储多个靶和样品。交易过程无需繁琐的进、出关手续，交货期短，性价比高。如需了解更多脉冲激光沉积的相关内容，欢迎拨打图片上的热线电话。
