等离子清洗可以处理各种材料，无论是金属、半导体、氧化物，还是高分子材料(如聚丙烯、聚氯乙烯、聚四氟乙烯、聚酰亚胺、聚酯、环氧树脂等聚合物)。所以特别适合不耐热不耐溶剂的材料。还可以选择性地部分清洗材料的整体、局部或复杂结构；
真空等离子清洗机利用等离子体中各种高能物质的活化作用，彻底剥离附着在物体表面的污垢。以氧等离子体去除物体表面的油脂和污垢为例来说明这些作用。等离子体对油垢的作用类似于燃烧油垢。但不同的是，它在低温下“燃烧”。其基本原理:在氧等离子体中氧原子自由基、受激氧分子、电子和紫外线的共同作用下，油分子最终被氧化成水和二氧化碳分子，从物体表面被清除。
等离子清洗机就是利用这些活性成分的特性来处理样品表面，从而达到清洗和镀膜的目的。
等离子体和固体、液体或气体一样，是一种物质状态，也叫物质第四态。向气体施加足够的能量以将其电离成等离子体状态。等离子体的“活性”成分包括离子、电子、活性基团、受激核素(亚稳态)、光子等。等离子体表面处理仪器就是利用这些活性成分的性质对样品表面进行处理，从而达到清洗、修饰和灰化光刻胶的目的。