等离子体是物质的一种存在状态。通常情况下，物质以固态、液态和气态三种状态存在，但在某些特殊情况下会出现第四种状态，比如地球大气层中电离层中的物质。
等离子体清洗要控制的真空度约为100Pa，容易实现。因此这种装置的设备成本不高，清洗过程不需要使用昂贵的有机溶剂，使得整体成本低于传统的湿法清洗工艺；
等离子清洗使用户远离有害溶剂对人体的伤害，同时避免了湿式清洗中清洗对象易被冲走的问题；
等离子体和固体、液体或气体一样，是一种物质状态，也叫物质第四态。向气体施加足够的能量以将其电离成等离子体状态。等离子体的“活性”成分包括离子、电子、活性基团、受激核素(亚稳态)、光子等。等离子体表面处理仪器就是利用这些活性成分的性质对样品表面进行处理，从而达到清洗、修饰和灰化光刻胶的目的。